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CCU-010 LV_SP-010磁控离子溅射镀膜仪，是电子显微镜中精细颗粒贵金属镀膜的理想工具。触摸屏操控，配方可编程，保证结果可重复；具有断电时系统自动排气功能，防止系统被机械泵油污染。标配膜厚监测装置；主动冷却的溅射头可确保镀膜质量并延长连续运行时间；在对样品进行镀膜之前或镀膜之后，可选对样品进行等离子刻蚀处理，以增加薄膜的附着力或对膜层表面进行改性。

CCU-010 LV_CT-010精细真空镀膜系统专为SEM和EDX的常规高质量镀碳而设计。紧凑的插入式碳蒸发模块为镀碳树立了新标杆。将该头插入CCU-010 LV镀膜主体后，即可立即使用，适合SEM/EDS等需要高质量碳膜应用的场合。

CCU-010 LV普通真空镀膜系统专为SEM和EDX的常规高质量溅射镀膜和镀碳而设计。它是一款结构紧凑、全自动型的离子溅射和/或蒸发镀碳设备，使用非常简便。采用独特的插入式设计，通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射或蒸镀设备。在镀膜之前和/或之后，可选进行等离子处理。模块化设计可轻松避免金属和碳沉积之间的交叉污染。CCU-010标配膜厚监测装置。专有的自动碳源卷送设计–多达数十次碳镀膜，无需用户干预。主动冷却的溅射头可确保镀膜质量并延长连续运行时间。